PLATIT bietet Ihnen High-Tech-Anlagen zur PVD-Beschichtung und PECVD-Beschichtung von Werkzeugen und Komponenten an, die exakt nach Ihrem Bedarf ausgelegt sind. Dazu statten wir Ihre Beschichtungsanlagen mit folgenden Technologien aus:
Entscheiden Sie sich für eine der bewährten PLATIT Anlagen und nutzen Sie unser grosses Know-how in der Beschichtung von Werkzeugen und Komponenten. Darüber hinaus entwickeln wir für Sie gerne auch massgeschneiderte Sonderanlagen für Ihre besonderen Anforderungen.
Die PLATIT Pi111 Familie ist perfekt für kleinere PVD-Beschichtungsvolumen und ist damit die ideale Einsteiger-Anlagen:
Die PLATIT Pi411 PLUS bietet Ihnen mehr Möglichkeiten und lässt sich schnell an wechselnde Anforderungen anpassen:
Die PLATIT PL711 verleiht Ihren Komponenten und Werkzeugen diamantartige Beschichtungen für besonders reibungsreduzierte Oberflächen und hohe Standzeiten:
Mit der PLATIT PL1011 G4 schaffen Sie grosse Mengen an Werkzeugen pro Tag:
Dank der PLATIT Pi1511 können Sie PVD-Beschichtungen erzeugen, die state-of-the-art sind und Ihnen einen Vorsprung verschaffen:
Speziell für Münzprägeanwendungen hat PLATIT eine Sonderanlage zum Erzielen qualitativ hochwertiger PVD-Beschichtungen mit starker amorpher Struktur, hoher Dichte, hoher Oberflächengüte und hoher Abbildegenauigkeit entwickelt:
Die PLATIT Mega-PiMS ist eine Anlage speziell zur PVD-Beschichtung rotierender Komponenten und Walzen:
Eine einzige PLATIT PL2011 verfügt über genug Kapazität selbst für anspruchsvollste PVD-Beschichtungsvolumen:
Die PLATIT Pi603 ermöglicht Ihnen, Sägebänder in höchster Qualität direkt im Coil zu beschichten:
Pi111
Pi411
PL1011
Pi1511
PL2011
Max. Beschichtungs-Volumen [mm]
ø 353 x
H 498
ø 540 x
H 500
ø 715 x
H 805
ø 715 x
H 805
ø 1400 x H 700
Max. Beladung [kg]
160
200
750
750
1800
Arc-Technologie
2 x LARC® PLUS-Kathoden
3 x LARC®-Kathoden,
erweiterbar mit 1 x CERC®-Kathode
4 x Planare Kathoden, erweiterbar mit Double-Pulsed-Option
3 x LARC® XL-Kathoden,
2 x Planare Kathoden
6 x Planare Arc-Kathoden, 4 davon mit gepulsten Arc Power Supplies
Sputter-Technologie
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Erweiterbar mit 1 x zentraler SCIL®-Kathode
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Hybrid-LACS®-Technologie mit simultanen Arc- und Sputter-Prozessen
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Ja, erweiterbar
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DLC
Erweiterbar für DLC1
DLC1, erweiterbar für PECVD (DLC2) und für ta-C gesputtert (DLC3)
DLC1
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OXI
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Erweiterbar für oxidische Schichten
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Plasmanitrier-Funktion
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Ja, erweiterbar
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