Mit ihrem modularen Aufbau und der breiten Range verfügbarer Technologien ist die PLATIT Pi411 PLUS die flexibelste PVD-Beschichtungsanlage der Welt. Die Basis-Konfiguration als Arc-Beschichtungsanlage mit drei rotierenden Kathoden in der Tür können Sie vor Ort modular anpassen. Sie können sie mit einer Arc- oder Sputter-Zentralkathode sowie mit PECVD-, und OXI-Prozessen aufrüsten. Einzigartig für die Beschichtungsanlage ist auch die LACS®-Hybrid-Technologie, die Ihnen das gleichzeitige Beschichten mittels Arc- und Sputter-Technologien ermöglicht.
Vielfältige Konfigurationsoptionen und die hohe Flexibilität auf Basis der Rundkathoden erlauben Ihnen die Entwicklung kundenspezifischer PVD-Beschichtungen auf höchstem Leistungsniveau. Diese Beschichtungsanlage ist daher die ideale Wahl für Kunden, die keine technologischen Kompromisse eingehen möchten und Wert auf ein Maximum an Flexibilität und Performance legen.
Bei der PVD-Beschichtungsanlage PLATIT Pi411 PLUS haben Sie mehrere Technologie-Optionen zur Auswahl:
Basis-Konfiguration: 3 LARC®-Kathoden (LAteral Rotating Cathode) in der Tür zur Arc-Beschichtung
Für a-C:H:Si-Beschichtungen
ECO-Konfiguration + CERC®-Kathode (CEntral Rotating Cathode) mit Arc-Beschichtungstechnologie für erhöhte Produktivität sowie hochkomplexe Schichten
Für oxidische PVD-Beschichtungen in Korund-Struktur
Hochleistungs-Sputtering aus der zentralen Kathode
Simultane Arc- und Sputter-Prozesse mit LARC®-Kathoden in der Tür und zentraler SCIL®-Kathode
Bei der PLATIT Pi411 PLUS Beschichtungsanlage können mehrere Ätzverfahren zum Einsatz kommen, die Ihnen verschiedene Vorteile bieten: