Il video, a partire dal minuto 17:33, spiega il processo in modo più dettagliato.
Processo di etching LGD® per rivestimento PVD
LGD® sta per Lateral Glow Discharge, il processo di etching brevettato per le nostre unità di rivestimento PVD.
Oltre ai bordi taglienti (ad esempio, di rullatrici, punzoni e matrici), con l'LGD® è possibile raggiungere anche superfici e cavità complesse, poiché il flusso di elettroni tra due catodi crea un plasma con un'alta densità di ioni nell'unità rotante.
L'LGD® presenta in particolare i seguenti vantaggi:
- Basso "effetto antenna" grazie alla bassa tensione di polarizzazione
- Aumento della distanza media di diffusione
- Migliore penetrazione dell’etching, il che conduce a un etching migliore nelle scanalature
Utilizzo di uno schermo
Uno schermo copre i target per isolarli dal plasma nella camera. In questo modo i target possono essere trattati separatamente:
- I target vengono puliti accendendo un arco dietro lo schermo sulla superficie del target senza contaminare gli strumenti.
- Lo schermo viene aperto solo dopo che il target è stato pulito, il che fornisce le condizioni ideali per un'adesione ottimale del rivestimento e consente di utilizzare materiale puro e non contaminato per il rivestimento stesso.
L'indicatore 3D etch
Il nostro indicatore 3D etch brevettato è un metodo per esaminare visivamente e quantificare l'efficienza del plasma etching.
Questo metodo ottimizza lo sviluppo di processi e parametri dedicati per utensili a gambo, utensili da taglio per ingranaggi, matrici o anche per geometrie complesse.
- Fornisce un profilo 3D dell'effetto di plasma etching
- Previene un etching troppo debole o troppo forte
- Migliora le prestazioni dei rivestimenti in applicazioni mirate
Scala dei colori di interferenza da [1] Antończak, A. J., et al. (2014). L'influenza dei parametri di processo sulla colorazione indotta dal laser del titanio. Applied Physics A, 115(3),1003 - 1013
Per generare un profilo di etching a 3D, i campioni vengono prima rivestiti con strati che riflettono uniformemente un solo colore di interferenza (ad esempio, il blu). Successivamente, questi campioni vengono sottoposti a un processo di plasma etching con un periodo di tempo definito.
Poiché il colore di interferenza di un rivestimento è direttamente correlato al suo spessore, il colore risultante in qualsiasi punto della superficie può essere utilizzato per determinare l'effetto di etching in quel particolare punto con un'elevata risoluzione (±5nm). L'indicatore 3D etch di PLATIT consente quindi di selezionare la giusta combinazione di parametri di etching e garantisce che la strategia di etching selezionata si traduca in una rimozione ottimale del materiale dalla superficie.
Mentre di solito sono possibili solo misurazioni 1D o 2D del plasma etching e l'ottimizzazione richiede un test dell'utensile separato per ogni singolo set di parametri, con l'aiuto dell'indicatore 3D etch, l'effetto dell'etching è già visibile a occhio nudo subito dopo il test del plasma etching.
Il diagramma mostra il risultato dell'ottimizzazione mirata del plasma etching sui microutensili. Rispetto all'etching standard comunemente utilizzato, nel caso dell'etching 3D è stato osservato un grado di altezza della bava molto inferiore.
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