The video, starting at minute 17:33, explains the process in more detail.
用于 PVD 涂层的LGD® 刻蚀工艺
LGD®代表侧向辉光放电，这是我们PVD涂层设备中的专利蚀刻工艺。
除了在切削刃上适用，在复杂表面和型腔的工件上也可以使用LGD®处理(例如，压辊刀具，冲模)。因为两个阴极之间的电子流在转车区域产生高离子密度的等离子体。
LGD®具有以下优势：
- 由于偏压电压低，“天线效应”低。
- 增加的平均自由程。
- 更好的蚀刻穿透力，从而改善沟槽内的蚀刻。
屏蔽罩的使用
屏蔽罩遮蔽靶材，将靶材与腔室内的等离子体隔离开来。这样在工艺上让我们可以对靶材做分开单独处理：
- 在不污染被涂工件的情况下，通过靶材后方的屏蔽罩点燃靶材表面起弧来清洁靶材。
- 只有在靶材被清洗后才打开屏蔽罩，这为最佳的涂层结合力提供了理想的条件，并且可以使用纯净的、未受污染的靶材材料进行涂层。
3D 刻蚀指示器
我们的专利3D蚀刻指示器是一种直观检查和量化等离子体蚀刻效率的方法。
这种方法优化了柄状刀具、齿轮刀具、模具甚至复杂几何形状工件的专用工艺和参数的开发。
- 提供等离子体蚀刻效果的3D轮廓。
- 防止刻蚀过弱或过强。
- 提高涂层在意向应用中的性能。
Interference color scale from [1] Antończak, A. J., et al. (2014). The influence of process parameters on the laser-induced coloring of titanium. Applied Physics A, 115(3),1003 – 1013
为了生成3D蚀刻轮廓，首先在样品上涂上仅均匀反射单一干涉颜色(例如蓝色)的层。随后，这些样品在规定的时间内进行等离子体蚀刻。
由于涂层的干涉颜色与其厚度直接相关，因此在表面上任何一点产生的颜色都可以用于高分辨率(±5nm)确定该特定位置的蚀刻效果。因此，PLATIT的3D蚀刻指示器能够选择正确的蚀刻参数组合，并确保所选的蚀刻策略能够从表面获得最佳的材料去除。
虽然通常只能进行等离子体蚀刻的一维或二维测量，并且优化需要对每个单独的参数集进行单独的工具测试，但在3D蚀刻指示器的帮助下，在等离子体蚀刻测试后，蚀刻效果已经可以用肉眼立即看到。
该图显示了微工具等离子体刻蚀的目标优化结果。与常用的标准蚀刻相比，三维蚀刻的毛刺高度明显降低。