PLATIT Pi411-具备无限灵活性的涂层设备
凭借其模块化设计和广泛的可用技术范围，Pi411 PLUS是世界上最灵活的PVD涂层设备。其基本配置为在门内安装三个旋转阴极的ARC电弧单元，可以在现场做模块化升级使用电弧或溅射中心阴极，也可以进行PECVD和OXI的工艺升级。该涂层设备的独特之处还在于LACS®混镀技术, 该技术允许同时使用电弧和溅射工艺过程来沉积涂层。
基于旋转阴极的多种配置选项和高度灵活性，使您能够开发出高性能的定制PVD涂层。因此，对于那些不想在技术上做出任何妥协，并看重最大灵活性和性能的客户来说，这种涂层装置是理想的选择。
技术
PLATIT Pi411 PLUS PVD涂层设备为您提供多种技术选择：
ECO
基本配置为门上安装3 支LARC®(侧向旋转用于电弧阴极)，用于电弧涂层
PECVD (DLC2):
用于a-C:H:Si涂层:
TURBO
ECO 配置+ CERC®(中心旋转阴极)，电弧涂层技术，提高生产率和实现最复杂的涂层
OXI
用于白刚玉结构的氧化物PVD涂层
SCIL®
来自中心阴极的高性能溅射涂层
Hybrid LACS®
使用门上的LARC®和中心的SCIL®阴极, 同时进行电弧和溅射过程
运用到的刻蚀技术
几种蚀刻技术都可在PLATIT Pi411 PLUS涂层设备使用，各具优点：
- LGD® (侧向辉光放电)
- Ar 辉光放电的等离子体刻蚀
- 金属离子刻蚀 (Ti, Cr)
装载和运行周期
- 最大涂层区域：ø 540 x H 500 mm
- 获得指定涂层厚度的最大涂层高度：414 mm
- 最大载重：200 kg
- 最高4-5 炉/天
模块化转车系统
- 1-14 轴转车
软件
- PLATIT的智能系统 (PC和PLC系统)
- 使用和维护简单
- 现代化的用户界面，触摸屏菜单导航
- 实时流程可视化，包括数据记录和数据管理
- 手动和自动的过程控制
- 远程诊断和维护
设备尺寸
- 外观尺寸：2950 x 1900 x 2400mm (宽×深×高)