PLATIT S-MPuls涂层设备是专门为抛光表面涂层开发的,如冲头,冲压或铸币冲压模。
为了满足最高要求的无缺陷表面,我们需要有效的蚀刻。因此,我们使用标准的脉冲偏压氩气蚀刻以及我们的专利LGD®(侧向辉光放电)刻蚀工艺。表面被有效清洁并激活,有利于结合层的生长。
通过使用我们的溅射涂层技术,涂层工件再现了原始的加工表面结构,无缺陷和偏差。因为有一特殊的调制磁场,涂层的分布非常均匀。其结果是程序一种具有近乎完美成像精度的高质量涂层。
S-MPuls涂层设备中的夹具是针对特定应用量身定制的。由于您可能需要涂覆不同几何形状的工件,根据不同的工件直径,夹具可以通过附加环进行调整。在这里为防止工件表面被灰尘污染,有必要提供一个底座。为满足这一要求,工件被倒置放置面向靶材,靶材安装在腔室的底部。当然换靶过程快速并且容易。
S-MPuls是我们产品组合中最小的涂层设备,2 ~ 2.5 μm涂层厚度的炉次运行时间小于3小时。
PLATIT S-MPuls涂层设备有三种蚀刻技术: